1.工藝特點(diǎn):
RC－M92半光亮鎳工藝是專門為防腐蝕性能要求高的電鍍件而設(shè)計(jì)，是雙層鎳或多層鎳系統(tǒng)電鍍中的半光亮鎳底層。
鍍層含硫量低于0.003%,半光亮鎳層與光亮鎳層電位差達(dá)120-145mv,耐蝕性極好;
鍍層柔軟性好,覆蓋能力強(qiáng),填平效果極佳;
光亮劑濃度高,消耗量小;
不含香豆素,分解產(chǎn)物少,鍍液穩(wěn)定,容易維護(hù)，降低了廢水處理和活性碳處理的成本。.
2.鍍液組成及操作條件:
|
鍍液組成及工藝條件
|
適用范圍
|
一般開缸用量
|
|
***鎳
|
240-300克/升
|
270克/升
|
|
氯化鎳
|
45-55克/升
|
50克/升
|
|
硼酸
|
40-50克/升
|
45克/升
|
|
RC-M91柔軟劑
|
4-6毫升/升
|
5毫升/升
|
|
RC-M92整平劑
|
0.4-0.8毫升/升
|
0.6毫升/升
|
|
RC-M93穩(wěn)定劑
|
0.4-0.8毫升/升
|
0.6毫升/升
|
|
半光亮鎳濕潤劑
|
1-2毫升/升
|
1.5毫升/升
|
|
溫度
|
45-55℃
|
50-55℃
|
|
PH值
|
4.0-4.8
|
4.3
|
|
電流密度
|
2-6安培/平方分米
|
4安培/平方分米
|
|
攪拌方式
|
空氣或機(jī)械攪拌
|
空氣或機(jī)械攪拌
|
|
過濾方式
|
連續(xù)循環(huán)過濾
|
連續(xù)循環(huán)過濾
|
3.鍍液配制方法
在預(yù)備槽中注入三分之二的純水,加熱至60-70℃;加入所需的***鎳及氯化鎳,攪拌使其完全溶解.在另一個(gè)容器中,將所需的硼酸用水加熱溶解后,倒入上述溶液中.
加入2毫升/升30%的雙氧水(稀釋后再加入),并攪拌1小時(shí),再加溫至65-70℃,攪拌2小時(shí),以除去多余的雙氧水.
在55-60℃時(shí),加入2-3克/升的活性碳,攪拌1小時(shí).保溫靜置4-8小時(shí)后,再過濾鍍液,并加入純水到所需的刻度,用稀***或4%的氫氧化鈉(化學(xué)純)溶液,調(diào)整PH值至4.0左右.
用波浪狀的假陰極,以低電流密度(0.2-0.5安培/平方分米)連續(xù)電解12小時(shí)以上,或直至低電位顏色由暗黑色變成淺灰色.
最后加入計(jì)算量的各種添加劑,便可以開始電鍍.
4.設(shè)備要求:
鍍槽: 內(nèi)襯塑料的鋼槽或者塑料槽.
循環(huán)過濾: 過濾泵最少能在一小時(shí)內(nèi)將鍍液過濾四次.每工件40小時(shí),在過 濾泵中放入0.6克/升的活性碳，效果會更佳。