新一代 Nano Indenter G200 具有最好的穩(wěn)定性和可靠性。 該力學(xué)設(shè)備的工廠擁有最廣泛的顧客群，在高端力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)領(lǐng)域內(nèi)擁有最高的的市場(chǎng)占有率。
KLA-Tencor 公司擁有最多的 Nano Indenter 的核心專利技術(shù)，包括已成為業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)的連續(xù)剛度測(cè)量功能、接觸剛度成像功能以及快速納米壓入測(cè)試技術(shù)等等；連續(xù)剛度測(cè)量功能已經(jīng)成為薄膜、涂層、多相材料等樣品檢測(cè)最常用的的測(cè)試技術(shù)，并已經(jīng)錄入各種力學(xué)領(lǐng)域的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)和中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)。該設(shè)備擁有世界上最快壓痕測(cè)試技術(shù)的專利，最快可達(dá)到 1 壓痕點(diǎn)/秒。
第五代原位納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)
Nano Indenter G200
在微/納尺度范圍內(nèi)的加載和位移構(gòu)成精確的力學(xué)測(cè)試
應(yīng)用
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半導(dǎo)體器件, 薄膜
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硬質(zhì)涂層, DLC薄膜
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復(fù)合材料, 光纖, 聚合物材料
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金屬材料, 陶瓷材料
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無鉛焊料
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生物材料, 生物及仿生組織等等